电浆熔射奈米级Al<,2>O<,3>/13﹪(ω)TiO<,2>微粒之涂层特性研究

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• 作者：苏程裕郭家宏林中魁萧威典
• 会议时间：2004-08-29
• 关键词：电浆熔射 ; 奈米粉体 ; 层状组织 ; 介电性质
• 作者单位：苏程裕,郭家宏(台北科技大学机械工程系(台北))林中魁(逢甲大学材料科学与工程系(台中))萧威典(工业技术研究院工业材料研究所(新竹))
• 母体文献：2004年第4卷增刊《过程工程学报》
• 会议名称：中国颗粒学会2004年年会暨海峡两岸颗粒技术研讨会
• 会议地点：山东烟台
• 主办单位：中国颗粒学会
• 语种：chi

摘要

本研究分别使用传统和奈米级Al<,2>O<,3>/13﹪(ω)TiO<,2>粉体进行电浆熔射涂层喷覆,并进行结构与特性研究.实验结果显示,从微观结构组织观察得知,传统熔射涂层结构为层状组织(Lamellar Structure),内含部分Al<,2>O<,3>未熔颗粒、Al<,2>O<,3>和TiO<,2>中间相组织与TiO<,2>熔融组织,奈米级熔射涂层结构,除了层状组织外,出现许多颗粒状部分熔融(Partially-Molten)组织,散布于层状组织周围与基材界面处,原来α-Al<,2>O<,3>部分变态为γ-Al<,2>O<,3>,TiO<,2>结晶则固溶于氧化铝涂层中,介电特性方面,奈米级Al<,2>O<,3>/13﹪(ω)TiO<,2>熔射涂层之崩溃电压为1500V,介电强度约4.5kV/mm,介电常数为5.22,相较于传统粉体所喷覆之涂层,半导体特性上有相当大的改变.