高性能类金刚石碳膜的制备

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• 作者：王云锋王立平张广安王君闫鹏勋薛群基
• 会议时间：2008-04-01
• 关键词：磁控溅射 ; 摩擦磨损 ; 类金刚石薄膜
• 作者单位：王云锋,张广安,王君(中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室,甘肃 兰州 730000 兰州大学 等离子体与金属材料研究所, 甘肃 兰州 730000)王立平,薛群基(中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室,甘肃 兰州 730000)闫鹏勋(兰州大学 等离子体与金属材料研究所, 甘肃 兰州 730000)
• 母体文献：第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛论文集
• 会议名称：第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
• 会议地点：武汉
• 主办单位：中国机械工程学会
• 语种：chi

摘要

采用中频磁控溅射技术在单晶硅表面制备含铝类金刚石(Al-DLC)薄膜,利用原子力显微镜、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪和微摩擦磨损实验机等考察了薄膜的表面形貌、结构及其摩擦磨损性能。结果表明:所制备的含铝类金刚石薄膜均匀、致密,表面粗糙度小,应力较低,硬度较高;薄膜与Si3N4陶瓷球对摩表现出良好的抗磨减磨性能,耐磨寿命超过3×105次。