紫外光刻法制备图案化的硫化铜薄膜及其光学性能的研究

作者：卢永娟贾均红
会议时间：2008-04-01
关键词：硫化铜薄膜 ; 化学浴沉积 ; 光学性能 ; 紫外光刻 ; 纳米薄膜
作者单位：卢永娟(中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃兰州 730000 中国科学院研究生院,北京100039)贾均红(中国科学院研究生院,北京 100039)
母体文献：第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛论文集
会议名称：第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
会议地点：武汉
主办单位：中国机械工程学会
语种：chi

摘要

本文利用紫外光光刻技术结合化学浴沉积的方法,以EDTA为络合剂,CuSO4·5H2O和Na2S2O3为前驱体溶液,在70℃下选择性的沉积硫化铜纳米颗粒,制备了具有图案化结构的硫化铜纳米薄膜。通过SEM、表面三维轮廓仪、XRD等对生成的膜进行了表征,并探讨了最佳的生长条件,实验表明在最佳的生长条件下可以制备颗粒匀一的硫化铜纳米薄膜。紫外可见吸收光谱表明硫化铜薄膜具有一定的透光性,并且通过计算可得所制备薄膜的带隙为2.48eV。