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1.
无基膜
高深宽比
双面集成微结构元件的制作
作者:
徐平
;
黄燕燕
;
张旭琳
;
杨伟
;
彭文达
关键词:
双面集成
;
无基膜
;
高深宽比
;
紫外压印
年:2019
2.
40nm节点
高深宽比
接触孔刻蚀电性能稳定性改善
作者:
贺金鹏
;
蒋晓钧
;
明安杰
;
傅剑宇
;
罗军
;
王玮冰
;
陈大鹏
关键词:
高深宽比
;
接触孔刻蚀
;
侧壁形貌
;
刻蚀选择比
;
接触电阻
;
刻蚀设备耗材
年:2019
3.
雷达用
高深宽比
金属铜微通道散热器的制作
作者:
李晓军
;
吕辉
;
朱和卿
;
赵雯
;
杜立群
关键词:
金属微通道
;
胶厚均匀性
;
胶厚测量
;
紫外光刻
;
雷达
年:2019
4.
应用于堆叠纳米线MOS器件的STI工艺优化研究
作者:
徐忍忍
;
张青竹
;
姚佳欣
;
白国斌
;
熊文娟
;
顾杰
;
殷华湘
;
吴次南
;
屠海令
关键词:
SiO2
;
HF溶液
;
腐蚀
;
高深宽比
工艺
;
浅沟槽隔离
年:2019
5.
基于微机电系统的
高深宽比
气相微色谱柱
作者:
罗凡
;
冯飞
;
赵斌
;
田博文
;
杨雪蕾
;
周海梅
;
李昕欣
关键词:
微机电系统
;
气相微色谱柱
;
高深宽比
微沟道
年:2018
6.
高深宽比
微细结构紫外光固化-脱模工艺建模与分析
作者:
吴昊
;
易培云
;
彭林法
;
来新民
关键词:
高深宽比
;
卷对卷
;
固化-脱模
;
结构缺陷
年:2018
7.
一种干法刻蚀形成
高深宽比
CIS Deep-P Well IMP掩模的工艺方法的探究
作者:
乔夫龙
;
耿金鹏
;
许鹏凯
关键词:
集成电路制造
;
干刻刻蚀
;
CMOS图像传感器
;
full
;
well
;
capacity
;
光素性能
;
high-aspect-ratio
;
Deep
;
P-well
;
IMP图案掩模
;
高深宽比
;
Tri-Layer
;
PR/SiHM/SOC
;
像素压缩
年:2018
8.
基于CMOS-MEMS工艺的
高深宽比
体硅刻蚀方法的研究
作者:
张海华
;
吕玉菲
;
鲁中轩
关键词:
CMOS-MEMS工艺
;
高深宽比
;
深槽刻蚀
;
RIE和Bosch工艺
年:2018
9.
空潜自由空间光通信的链路性能评估(英文)
作者:
李军
;
元秀华
;
王铭淏
关键词:
自由空间光通信
;
环形光束
;
海洋湍流
;
无人水下航行器-无人机光学链路
;
波动光学仿真
年:2019
10.
高深宽比
柔性微米纤维阵列制造及稳定性研究
作者:
赵卫军
关键词:
高深宽比
;
柔性微米纤维
;
贴地倾倒
;
侧向倾倒
年:2017
1
2
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