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中图分类法(4)
工业技术(4)
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1.
铜互联工艺中的DFM方法研究
作者:
赵宇航
关键词:
可制造性设计(DFM)
;
双重曝光
;
光学临近效应(OPC)
;
化学机械抛光(CMP)
;
铜互连
论文级别:
博士
学位年度:2009
2.
基于32nm光刻双重图形技术的研究和工艺实践
作者:
姚树歆
关键词:
双重图形
;
光刻-刻蚀-光刻-刻蚀
;
光刻-工艺-光刻-刻蚀
;
自对准双重图形
;
生产导向型设计
;
分辨率增强技术
;
光学临近效应
;
拆分
;
缝合
;
冲突
;
极紫外光刻
;
对准精度
;
线宽均一性
;
国际半导体技术发展路线图
论文级别:
硕士
学位年度:2011
3.
辅助图形在工艺窗口OPC模型中的应用以及广义OPC的概念
作者:
周从树
关键词:
分辨率增强技术
;
光学临近效应修正
;
光学和工艺临近效应修正
;
可制造性设计
论文级别:
硕士
学位年度:2009
4.
车载摄像机自动曝光控制方法研究
作者:
潘升东
关键词:
车载摄像机
;
基于图像内容的自动曝光控制
;
车道标志线检测
;
多斜率响应特性
论文级别:
硕士
学位年度:2008
1
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