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中图分类法(12)
工业技术(12)
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1.
高压AlGaN/GaN HEMTs的新结构与场优化技术
作者:
谢刚
关键词:
高迁移率晶体管(HEMTs)
;
III-V氮化合物半导体
;
表面电场优化
;
击穿电压
;
空气桥场板(Air-bridge
;
Field
;
Plate
;
AFP)
论文级别:
博士
学位年度:2012
2.
高K栅介质AlGaN/GaN MOS-HEMT器件研究
作者:
岳远征
关键词:
AlGaN/GaN异质结
;
高K栅介质
;
界面态
;
热处理
;
MOS-HEMT器件
论文级别:
博士
学位年度:2009
3.
砷化镓微波功率场效应晶体管的硫钝化研究
作者:
李晓光
关键词:
砷化嫁
;
金属半导体场效应管
;
击穿电压
;
(NH_4)_2S_x处理
;
负电荷表面态
;
氮化硅钝化
论文级别:
硕士
学位年度:2004
4.
新结构SOI材料与器件物理研究
作者:
朱鸣
关键词:
绝缘体上的硅(SOI)
;
自加热效应
;
浮体效应
;
等离子体浸没式离子注入
论文级别:
博士
学位年度:2005
5.
图形化SOI技术研究
作者:
董业民
关键词:
图形化SOI
;
SIMOX
;
DSOl器件
;
自热效应
;
浮体效应
;
纳米通道
论文级别:
博士
学位年度:2004
6.
4H-SiC MESFETs微波功率器件新结构与实验研究
作者:
邓小川
关键词:
4H-SiC
;
MESFETs
;
微波功率器件
;
源场板
;
自热效应
;
陷阱效应
论文级别:
博士
学位年度:2008
7.
提高GaAs MESFET击穿电压的研究
作者:
李亚丽
关键词:
砷化镓
;
金属半导体场效应晶体管
;
击穿电压
;
硫钝化
论文级别:
硕士
学位年度:2005
8.
一种适用于功率驱动电路的BCD工艺开发及优化
作者:
尹德杨
关键词:
BCD工艺
;
集成VDMOS
;
导通电阻
;
电流能力
论文级别:
硕士
学位年度:2010
9.
利用TCAD软件优化兼容于BCD工艺的LDMOS结构
作者:
陆鑫
关键词:
TCAD
;
LDMOS
;
BCD
;
击穿电压
;
Resurf
;
Double
;
Resurf
论文级别:
硕士
学位年度:2010
10.
碳化硅PMOS器件特性模拟及仿真
作者:
郜锦侠
关键词:
碳化硅PMOS器件
;
界面态
;
源漏串联电阻
;
有效迁移率
;
漏击穿
论文级别:
硕士
学位年度:2002
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