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CNKI学位论文
”中，
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11
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1.
激光（1.064μm）/红外（3～5μm）光学系统中滤光膜技术的研究
作者：
杨永亮
关键词：
增透保护膜
;
离子增强型化学气相沉积
;
内应力
;
厚度均匀性田口试验方法
论文级别：
博士
学位年度：2013
2.
平板式PECVD设备布气系统的分析和优化
作者：
刘洋
关键词：
PECVD
;
FLUENT
;
气场模拟
;
优化气场分布
论文级别：
硕士
学位年度：2009
3.
PECVD镀膜设备的控制系统开发
作者：
韩凤芹
关键词：
真空镀膜设备
;
OPTO
;
22
;
组态软件
;
PECVD
;
控制器
论文级别：
硕士
学位年度：2009
4.
PECVD氮化硅薄膜的制备工艺及仿真研究
作者：
邓其明
关键词：
氮化硅薄膜
;
PECVD
;
工艺参数
论文级别：
硕士
学位年度：2010
5.
多晶硅太阳能电池预处理及退火工艺研究
作者：
张鹏
关键词：
PECVD
;
氮化硅薄膜
;
晶体硅太阳能电池
;
氢钝化
;
少数载流子寿命
;
退火
论文级别：
硕士
学位年度：2012
6.
高开口率像素设计与画面品质改善的研究
作者：
邹祥祥
关键词：
TFT-LCD
;
画面品质
;
垂直串扰
;
像素设计
论文级别：
硕士
学位年度：2012
7.
大马士革铜阻挡氮化硅薄膜沉积工艺的优化研究
作者：
邱振宇
关键词：
铜互连
;
氮化硅
;
铜阻挡层
;
PE-CVD
;
HDP-CVD
;
工艺优化
论文级别：
硕士
学位年度：2008
8.
SiO_2和Si_3N_4薄膜的PECVD沉积及在半导体光电子器件中的应用研究
作者：
张檀威
关键词：
PECVD
;
二氧化硅
;
氮化硅
;
薄膜
;
工艺参数
论文级别：
硕士
学位年度：2010
9.
PECVD制备玻璃态SiO_2薄膜技术研究
作者：
孙钰林
关键词：
等离子体增强
化学气相沉积
;
二氧化硅
;
沉积
;
正硅酸乙酯
论文级别：
硕士
学位年度：2009
10.
a-Si TFT用氮化硅薄膜的制备及其性能研究
作者：
谢振宇
关键词：
氮化硅薄膜
;
PECVD
;
栅绝缘层
;
栅界面层
;
钝化层
论文级别：
硕士
学位年度：2007
1
2
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