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1.
Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｗ掺杂硅化石墨扫描电镜研究
责任者：
葛学贵^c中国地质大学（武汉）
;
曹宏
;
黄少云^c武汉化工学院
;
陈亦凡
;
靳化才
;
杨密纯
关键词：
石墨
;
深加工20^a实验研究
;
扫描电子显微术
;
显微构造
;
铌30^a硅化石墨
刊名：地质科技情报
出版年：2001
卷期：２０^b４总８８
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