三氟乙酰丙酮Ｇｄ（Ⅲ）ＣＴＭＡＢ配合物体系荧光法研究及应用

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• 责任者：倪其道^c中国科技大学应化系 ; 张银汉 ; 宋子台^c中国科技大学结构成分分析中心 ; 吕宇声
• 刊名：光谱学与光谱分析
• 出版年：1998
• 卷期：１８^b２
• 关键词：荧光分析 ; 钆20^a稀土矿物 ; 痕量元素分析 ; 试剂 ; 灵敏度 ; 荧光 ; 机制
• 页码：２５２～２５５
• 索书号：P342.06/220
• 图表：表１参７插图
• 分类号：2300
• 文摘期号：1998/10

摘要

该文研究了pH 72 Triton x100存在T的Cd(Ⅲ)三氟乙酰丙酮CTMAB的三元配合物荧光体系，探讨了Gd(Ⅲ)β二酮的发光机理和GaPrTFA的“共发光”机理，以及Trition x100和CTMAB表面活性剂的增敏作用，据此建立了三氟乙酰两酮荧光法测定痕量钇。Gd(Ⅲ)的线性范围为0005～04μg/ml，最低检测限为0003μg/ml。该体系较稳定，在48h内相对荧光强度基本不变。方法操作简单，重复性好，灵敏度高，用于稀土矿的痕量Gd的测定，与ICPAES法进行对比，测定结果基本一致，结果令人满意。(山青)