射频溅射功率对ZnO透明导电薄膜光电性能的影响

详细信息   全文下载|推荐本文 |

• 出版年：2009
• 作者：陈肖静；王永谦；朱拓；李果华；张光春
• 单位1：江南大学理学院
• 单位2：尚德太阳能电力有限公司研发中心
• 出生年：1985
• 学历：硕士
• 语种：中文
• 作者关键词：磁控溅射；ZnO薄膜；沉积速率；光电特性；HIT太阳电池
• 起始页：354
• 总页数：4
• 经费资助：江苏省高技术招标项目(BG2007002)；江苏省六大人才高峰项目；信息产业部电子发展基金项目
• 刊名：人工晶体学报
• 是否内版：否
• 刊频：双月刊
• 创刊时间：1972
• 主编：余明清
• 电子信箱：zoomber@zoomber.com
• 网址：www.zoomber.com
• 卷：38
• 期：2
• 期刊索取号：P311.06105
• 核心期刊：《EI》核心期刊；中文核心期刊

摘要

采用磁控溅射技术在不同溅射功率下制备了ZnO薄膜。研究了薄膜的沉积速率、光电特性以及不同功率条件下制备的ZnO薄膜对HIT电池开路电压的影响。结果表明：在溅射功率为200W时制备的薄膜，具有良好的导电性和光透过性；将其应用到HIT电池中，得到的开路电压最高。该研究对提高HIT电池性能具有一定的参考意义。