UV-LIGA制作微细电解阵列电极

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• 作者：胡洋洋朱荻李寒松曲宁松明平美
• 会议时间：2009-10-01
• 关键词：UV-LIGA ; SU-8resist ; resist removal ; micro electrode array ; micro ECM
• 作者单位：南京航空航天大学/江苏省精密与微细制造技术重点实验室,江苏南京210016
• 母体文献：第13届全国特种加工学术会议论文集
• 会议名称：第13届全国特种加工学术会议
• 会议地点：南昌
• 主办单位：中国机械工程学会
• 语种：chi
• 分类号：O64;TH1

摘要

以微细阵列电极作为工具电极进行群孔微细电解加工可显著提高加工效率,其中阵列电极的制造是该工艺的关键技术.采用UV-LIGA技术制作超高金属微细阵列电极,并利用电解置桩的方法辅助去除SU-8胶.通过单次涂胶、提高前烘温度、降低后烘温度的方法制作了厚度达1 mm的SU-8胶结构;采取电解置桩法在金属基底上电解得到微坑,增强电铸金属电极与金属基底的结合力,保证去胶后电铸金属的完整性.最终获得了高800 μm、线宽300 μm的金属微细阵列电极结构,并通过微细电解加工出微细阵列群孔.