Ti0.5Al0.5N/Ti0.25Al0.75N/AlN光谱涂层的优化设计
- 作者：杜淼郝雷余航杨海龄刘晓鹏
- 会议时间：2014-12-01
- 关键词：光谱选择性吸收涂层 ; 氮化物 ; 优化设计 ; 光学常数
- 作者单位：北京有色金属研究总院能源材料与技术研究所,北京,100088
- 会议名称：北京金属学会第八届冶金年会
- 会议地点：北京
- 主办单位：北京金属学会
- 语种：chi
- 分类号：TK5;X82
摘要
设计了一种新型的光谱涂层,使用Ti0.5Al0.5N和Ti0.25Al0.75N作为吸收层,AlN作为减反射层.采用光谱椭偏仪拟合了各层的折射率和消光系数:Ti0.5Al0.5N和AlN涂层的光学常数分别表现出类金属特性和电介质特性;Ti0.25Al0.75N表现出金属与陶瓷间的过渡态特性.使用TFCalc软件模拟了多层膜的厚度,并通过实验验证,得到了吸收率为0.945,发射率仅为0.04(82℃)的光谱选择性吸收涂层.