模拟日光条件下得克隆的光化学降解机理研究

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• 作者：王斯文黄俊余刚
• 会议时间：2011-05-17
• 关键词：得克隆 ; 日光条件 ; 光化学 ; 降解机理
• 作者单位：清华大学环境学院,持久性有机污染物研究中心,北京,100084
• 母体文献：持久性有机污染物论坛2011暨第六届持久性有机污染物全国学术研讨会论文集
• 会议名称：持久性有机污染物论坛2011暨第六届持久性有机污染物全国学术研讨会
• 会议地点：哈尔滨
• 主办单位：中国化学会
• 语种：chi

摘要

得克隆(Dechlorane Plus,简称DP)是在高分子材料以及电子电器等产品中被广泛使用的一类添加型高氯代阻燃剂,其工业品是两种异构体(syn-DP 和anti-DP)的混合物。目前研究表明,DP 具有难降解、高正辛醇/水分配系数、生物富集性等POPs性。自2006年以来,DP 在大气、底泥、土壤等各种环境样品中被广泛检出,文献中通常推测光解是DP 在环境中的主要去除机制,然而目前关于DP 光解的系统研究尚未见有报道。本研究以国产工业品得克隆以及syn-和anti-DP单体标液为对象,以壬烷为溶剂体系,对其在模拟日光条件下的降解动力学进行研究,在对光解产物进行鉴定的基础上,初步推断其降解途径和反应机理。