我国正性光刻胶的制备与应用研究进展
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摘要
简述了正性光刻胶的光聚合机理,重点阐述了我国正性光刻胶的制备研究进展,并指出了我国正性光刻胶研究及发展方向。
In this paper, the mechanism of photopolymerization of positive photoresist is briefly described. Then the progress in the preparation of positive photoresist in China is emphasized, and the future research direction and development direction of the positive photoresist in China are also pointed out.
In this paper, the mechanism of photopolymerization of positive photoresist is briefly described. Then the progress in the preparation of positive photoresist in China is emphasized, and the future research direction and development direction of the positive photoresist in China are also pointed out.
引文
[1]庞梦瑶,程新立,秦长发,等.瑞红RZJ-304光刻胶光刻工艺研究[J].苏州科技学院学报(自然科学版),2015,32(3):20-24.
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[3]李丹丹,梁庭,李赛男,等.ICP深硅刻蚀工艺掩模的研究[J].传感器与微系统,2015,34(8):29-31.
[4]刘建国,蒋明,曾晓雁.一种248 nm光刻胶成膜树脂的合成及相关性能研究[J],影像科学与光化学,2013,31(5):349-358
[5]周虎,李宁,蒋敏,等.光致抗蚀剂的制备及其性能研究[J].印制电路信息,2015,9:10-13.
[6]曹昕.高分辨率I-line正性光刻胶的制备及应用性能研究[J].广州化学,2015,40(2):1-6.
[7]谢文,刘建国,李平.一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究[J],影像科学与光化学,2010,28(1):52-57.
[8]梁倩倩,王惟,谌星伊,等.正性小分子光刻胶的制备探索[J].四川理工学院学报(自然科学版),2006,16(2):105-107.
[9]冉瑞成,沈吉,孙友松,等.含倍半萜内酯的成膜树脂及其正性浸没式曝光193 nm光刻胶[P].CN104403048A,2015-03-11.
[10]冉瑞成,沈吉,庄学军,等.含倍半萜内酯成膜树脂及其正性248 nm光刻胶[P].CN 104592436A,2015-05-06.
[11]李嫕,郝青山,陈金平,等.一种星形四苯基乙烯衍生物分子玻璃、正性光刻胶、正性光刻胶涂层及其应用[P].CN 104557552A,2015-04-29.
[12]张福生.I-线正性光刻胶用成膜线性酚醛树脂的合成及性能影响[J].化工中间体,2014,12(5):24-30.
[13]刘建国.两种耐高温紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及性能[J].影像科学与光化学,2012,30(5):330-338.
[14]张盼,杨光,孙越.一种丙烯酸正性光刻胶及其制备方法[P].CN 102608866A,2012-07-25.
[15]浦家诚,夏明德.JS-4正性光刻胶两重性的研究[J].感光材料,1993,6:15-19.
[16]李浩,金峰,陈卫强,等.多光子光刻用的杯[4]芳烃分子玻璃正性光刻胶[J].影像科学与光化学,2012,30(5):347-353.
[17]郭玲香,管婧,张玉虎,等.新型树枝状聚合物类正性光刻胶树脂及其制备方法与应用[P].CN103980417A,2014-08-13.
[18]刘敬成,刘秋华,刘仁,等.分子玻璃正性光刻胶及其图案化方法[P].CN 103145624A,2013-06-12.
[19]郑志霞,冯勇建,张丹,等.BP-212正性光刻胶的抗蚀特性研究[J].微纳电子技术,2005,2:87-89.
[20]陈谷然,王雯,任春江,等.一种应用于金属剥离的单层正性光刻胶光刻方法[P].CN 103293850A,2013-09-11.
[21]郭哲,刘祝凯,宋娇阳,等.基于正性光刻胶的镍阳模具制作方法[P].CN 104597719A,2015-05-06.
[2]黄巍.一种高耐热化学增幅型光刻胶树脂及其光刻胶组合物[P].CN 104614941A,2015-05-13.
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