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表面张力温度系数对硅单晶生长过程计算机模拟
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  • 英文篇名:Simulation on Effect of Surface Tension Temperature Coefficient on Growth Process of Silicon Single Crystal
  • 作者:丁九桃 ; 李秋莎
  • 英文作者:DING Jiutao;LI Qiusha;Peking University;Yunnan Vocational College of Economic Management;Commercial College of Guizhou;
  • 关键词:单晶硅 ; 表面张力温度系数 ; Cz炉
  • 英文关键词:silicon;;surface tension temperature coefficient;;Cz furnace
  • 中文刊名:ZZJS
  • 英文刊名:Foundry Technology
  • 机构:北京大学;云南经济管理职业学院;贵州商业高等专科学校;
  • 出版日期:2013-12-18
  • 出版单位:铸造技术
  • 年:2013
  • 期:v.34;No.258
  • 语种:中文;
  • 页:ZZJS201312045
  • 页数:3
  • CN:12
  • ISSN:61-1134/TG
  • 分类号:116-118
摘要
采用有限元方法模拟了硅单晶Cz炉内的熔体流动及传输过程,研究了表面张力温度系数对熔体流动和氧浓度的影响。结果表明,自由表面的熔体流动随表面张力温度系数的增大而加强。常规Cz炉内结晶界面的氧浓度呈现先降低后升高的趋势,而带有气体导板的Cz炉内氧浓度一直减小。
        The melt flow and transport process in the silicon single crystal Cz furnace were simulated using finite element method, and the effect of surface tension temperature coefficient on the melt flow properties and oxygen concentration was investigated. The results show that the melt flow of the free surface increases with the increase of surface tension temperature coefficient. And the oxygen concentration of melt-crystal interface increases first and then decreases in general Cz furnace, while the oxygen concentration always decreases in the Cz furnace with gas guide plate.
引文
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