国内外装饰环保三价铬电镀的研究进展
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- 英文论文题名：Research Progress of Environmental Trivalent Decorative Chromium Coatings at Home and Abroad
- 论文作者：张靖 ; 屠振密 ; 赵晓宏 ; 高成勇
- 英文论文作者：Zhang Jing~(1*) Tu Zhenmi~2 Zhao Xiaohong~1 Gao Chengyong~1 1.China Faw Group Corporation R&D Center 2.Department of Applied Chemistry ; Harbin Institute of Technology at Weihai
- 年：2013
- 作者机构：中国第一汽车股份有限公司技术中心;哈尔滨工业大学(威海)应用化学系;
- 论文关键词：三价铬 ; 汽车装饰 ; 环保工艺 ; 研究进展
- 英文论文关键词：Trivalent chromium ; Automobile decoration ; Environmental protection technology ; Research progress
- 会议召开时间：2013-11-26
- 会议录名称：2013中国汽车工程学会年会论文集
- 英文会议录名称：Proceedings of 2013 SAE-China Congress
- 语种：中文
- 分类号：TQ153.11
- 学会代码：QCGC
- 会议名称：2013中国汽车工程学会年会
- 会议地点：中国北京
- 主办单位：中国汽车工程学会
- 学会名称：中国汽车工程学会
- 页数：5
- 文件大小：216k
- 原文格式：O
- 会议级别：全国
摘要
综述了近几年三价铬电镀的发展极应用现状,列出了国内外已经工业化的三阶铬电镀工艺;对三阶铬镀液电镀铬的特点、工艺、阴极过程、常用阳极与电镀存在的问题进行了评述,并对电镀中存在的问题探讨了其解决途径。
Development of trivalent chromium coatings was reviewed and application status of trivalent chromium coatings was introduced.Some trivalent chromium plating process which had been industrialized at home and abroad was listed.Characteristics of the trivalent chromium plating process,catholic process,commonly used anode were reviewed and some problems that should be deeply studied and the feasible methods were pointed out.
Development of trivalent chromium coatings was reviewed and application status of trivalent chromium coatings was introduced.Some trivalent chromium plating process which had been industrialized at home and abroad was listed.Characteristics of the trivalent chromium plating process,catholic process,commonly used anode were reviewed and some problems that should be deeply studied and the feasible methods were pointed out.
引文
[1]北京电镀协会.发达国家和地区电镀行业污染防治现状[J].材料保护,2011,44(11):32-33.
[2]张允诚,胡如南,向荣.电镀手册(第三版)[M].北京:国防工业出版社,2007.
[3]屠振密,郑剑,李宁,等.三价铬电镀铬现状及发展趋势[J].表面技术,2007,36(5):59-63.
[4]苗毅,黄旋,李家柱.三价铬电镀铬现状及发展趋势[J].材料保护,2011,44(4):38-40.
[5]安茂忠.电镀理论与技术[M].哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,2004.
[6]李永彦,李宁,屠振密,等.三价铬硫酸盐电镀铬的发展现状[J].电镀与精饰,2009,31(1):13-17.
[7]屠振密.三价铬镀铬的国内外研究和发展[J].哈尔滨工业大学学报,1980,(1):109-121.
[8]崔延昌,张素兰.三价铬电镀[J].电镀与环保, 2008,28(3):41-42.
[9]刘卫青,张长鑫,杜登学,等.日本三价铬电镀技术的发展状况[J].材料保护,2008,41(10):47-50.
[10]屠振密,杨哲龙.甲酸盐-乙酸盐体系三价铬电镀工艺[J].材料保护,1985,6:68-11
[11]李炳江,屠振密,孙化松,等.硫酸盐三价铬电镀新工艺[J].电镀与环保,2010,30(3):12-14.
[12]胡会利,昝振峰,屠振密,等.硫酸盐三价铬电镀中铵盐的作用及影响[J].表面技术,2011,40(3): 94-97.
[13]毕四富,龚超,屠振密,等.配位剂对低浓度硫酸铬镀铬的影响[J].电镀与精饰,2011,33(9):1-4.
[14]胡耀红,陈力格,刘建平.三价铬镀铬工艺及其新型阳极的研究[J].电镀与涂饰,2004,23(2):19-21.
[15]胡耀红,刘建平,陈力格.硫酸盐三价铬镀铬工艺[J].电镀与涂饰,2006,25(1):43-45.
[16]周智鹏,刘建平,陈力格,等.硫酸盐三价铬镀铬工艺中杂质的影响及去除[J].电镀与涂饰,2008,27 (5):11-13.
[17]郭崇武,赖奂汶.硫酸盐体系高效三价铬电镀装饰铬新工艺[J].电镀与涂饰,2012,31(6):9-12.
[18]郭崇武,赖奂汶.硫酸盐体系三价铬电镀装饰铬的突破[J].涂装与电镀,2011,4:3-8.
[19]郭崇武,赖奂汶.新一代硫酸盐三价铬电镀装饰铬工艺[J].涂装与电镀.2012,1:34-37.
[20]李家柱,毛祖国,丁运虎,等.三价铬电镀铬的研究[J].涂装与电镀.2012,34(12):14-17.
[21]管勇,毛祖国,丁运虎,等.硫酸盐体系三价铬电镀工艺研究[J].材料保护,2007,40(6):26-29.
[22]毛祖国,管勇,丁运虎,等.氯化物体系三价铬电镀??工艺研究[J].绿色制造技术,2008,4:87-91.
[23]Y.B.Song,D.T.Chin.Current efficiency and polarization behavior of trivalent chromium electrodeposition process [J].Electrochimica Acta,2002,48:349-356.
[24]舒绪刚,廖列文,何湘柱,等.氯化物水溶液体系三价铬电沉积机理研究[J].表面技术,2010,39 (2):1-4.
[25]马立文,陈白珍,何新快.羧酸盐尿素体系中三价铬电沉积机理[J].物理化学学报.2007,23(10): 1607-1611.
[26]邓姝皓,龚竹青,易丹青,等.三价铬还原电沉积机理[J].中南大学学报,2005,36(2):213-218.
[27]李远会,陈阵,陈步明.三价铬电镀阳极材料的应用与研究进展[J].材料保护,2011,44(11):54-73.
[28]覃奇贤.介绍一种三价铬电解液镀铬的阳极[J].电镀与涂饰,2010,32(2):14.
[29]覃奇贤.三价铬电解液镀铬工艺的改进[J].电镀与涂饰,2009,31(2):4.
[30]胡耀红,陈力格,赵国鹏,等.三价铬镀铬阳极的研究[J].材料保护,2006,39(4):26-31.
[31]屠振密,胡会利,侯峰岩.环保型三价铬电沉积发展中的问题、解决途径及其展望[J].材料保护,2012, 45(3):52-55.
[32]屠振密,杨哲龙,汪沦海,等.三价铬电镀机理的研究-铬层不能增厚的原因[J].材料保护,1985,18 (5):14-16.
[33]郭崇武,易胜飞.金属杂质对三价铬镀铬的影响及处理[J].电镀与精饰,2008,30(9):28-30.
[34]冯忠宝,屠振密,胡会利.环保型三价铬电沉积功能铬研究现状及发展[J].电镀与涂饰,2013,32 (3):44-49.
[35]D.L.Snyder.Distinguishing trivalent deposits by color [J].Plating and Surface Plating,2003,(11):34 - 39.
[36]张靖.硫酸盐三价铬电镀添加剂的优选[D].哈尔滨:哈尔滨工业大学,2010:22.
[37]Zhenmi Tu,Zhelong Yang.Cathode polarization in trivalent chromium plating[J].Plating and Surface Finishing,1993,79(9):78-82.
[38]李艳.Macdemid电镀三价铬工艺研究[J].化工技术与开发,2005,34(6):30-32.
[2]张允诚,胡如南,向荣.电镀手册(第三版)[M].北京:国防工业出版社,2007.
[3]屠振密,郑剑,李宁,等.三价铬电镀铬现状及发展趋势[J].表面技术,2007,36(5):59-63.
[4]苗毅,黄旋,李家柱.三价铬电镀铬现状及发展趋势[J].材料保护,2011,44(4):38-40.
[5]安茂忠.电镀理论与技术[M].哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,2004.
[6]李永彦,李宁,屠振密,等.三价铬硫酸盐电镀铬的发展现状[J].电镀与精饰,2009,31(1):13-17.
[7]屠振密.三价铬镀铬的国内外研究和发展[J].哈尔滨工业大学学报,1980,(1):109-121.
[8]崔延昌,张素兰.三价铬电镀[J].电镀与环保, 2008,28(3):41-42.
[9]刘卫青,张长鑫,杜登学,等.日本三价铬电镀技术的发展状况[J].材料保护,2008,41(10):47-50.
[10]屠振密,杨哲龙.甲酸盐-乙酸盐体系三价铬电镀工艺[J].材料保护,1985,6:68-11
[11]李炳江,屠振密,孙化松,等.硫酸盐三价铬电镀新工艺[J].电镀与环保,2010,30(3):12-14.
[12]胡会利,昝振峰,屠振密,等.硫酸盐三价铬电镀中铵盐的作用及影响[J].表面技术,2011,40(3): 94-97.
[13]毕四富,龚超,屠振密,等.配位剂对低浓度硫酸铬镀铬的影响[J].电镀与精饰,2011,33(9):1-4.
[14]胡耀红,陈力格,刘建平.三价铬镀铬工艺及其新型阳极的研究[J].电镀与涂饰,2004,23(2):19-21.
[15]胡耀红,刘建平,陈力格.硫酸盐三价铬镀铬工艺[J].电镀与涂饰,2006,25(1):43-45.
[16]周智鹏,刘建平,陈力格,等.硫酸盐三价铬镀铬工艺中杂质的影响及去除[J].电镀与涂饰,2008,27 (5):11-13.
[17]郭崇武,赖奂汶.硫酸盐体系高效三价铬电镀装饰铬新工艺[J].电镀与涂饰,2012,31(6):9-12.
[18]郭崇武,赖奂汶.硫酸盐体系三价铬电镀装饰铬的突破[J].涂装与电镀,2011,4:3-8.
[19]郭崇武,赖奂汶.新一代硫酸盐三价铬电镀装饰铬工艺[J].涂装与电镀.2012,1:34-37.
[20]李家柱,毛祖国,丁运虎,等.三价铬电镀铬的研究[J].涂装与电镀.2012,34(12):14-17.
[21]管勇,毛祖国,丁运虎,等.硫酸盐体系三价铬电镀工艺研究[J].材料保护,2007,40(6):26-29.
[22]毛祖国,管勇,丁运虎,等.氯化物体系三价铬电镀??工艺研究[J].绿色制造技术,2008,4:87-91.
[23]Y.B.Song,D.T.Chin.Current efficiency and polarization behavior of trivalent chromium electrodeposition process [J].Electrochimica Acta,2002,48:349-356.
[24]舒绪刚,廖列文,何湘柱,等.氯化物水溶液体系三价铬电沉积机理研究[J].表面技术,2010,39 (2):1-4.
[25]马立文,陈白珍,何新快.羧酸盐尿素体系中三价铬电沉积机理[J].物理化学学报.2007,23(10): 1607-1611.
[26]邓姝皓,龚竹青,易丹青,等.三价铬还原电沉积机理[J].中南大学学报,2005,36(2):213-218.
[27]李远会,陈阵,陈步明.三价铬电镀阳极材料的应用与研究进展[J].材料保护,2011,44(11):54-73.
[28]覃奇贤.介绍一种三价铬电解液镀铬的阳极[J].电镀与涂饰,2010,32(2):14.
[29]覃奇贤.三价铬电解液镀铬工艺的改进[J].电镀与涂饰,2009,31(2):4.
[30]胡耀红,陈力格,赵国鹏,等.三价铬镀铬阳极的研究[J].材料保护,2006,39(4):26-31.
[31]屠振密,胡会利,侯峰岩.环保型三价铬电沉积发展中的问题、解决途径及其展望[J].材料保护,2012, 45(3):52-55.
[32]屠振密,杨哲龙,汪沦海,等.三价铬电镀机理的研究-铬层不能增厚的原因[J].材料保护,1985,18 (5):14-16.
[33]郭崇武,易胜飞.金属杂质对三价铬镀铬的影响及处理[J].电镀与精饰,2008,30(9):28-30.
[34]冯忠宝,屠振密,胡会利.环保型三价铬电沉积功能铬研究现状及发展[J].电镀与涂饰,2013,32 (3):44-49.
[35]D.L.Snyder.Distinguishing trivalent deposits by color [J].Plating and Surface Plating,2003,(11):34 - 39.
[36]张靖.硫酸盐三价铬电镀添加剂的优选[D].哈尔滨:哈尔滨工业大学,2010:22.
[37]Zhenmi Tu,Zhelong Yang.Cathode polarization in trivalent chromium plating[J].Plating and Surface Finishing,1993,79(9):78-82.
[38]李艳.Macdemid电镀三价铬工艺研究[J].化工技术与开发,2005,34(6):30-32.