微电子用光敏聚酰亚胺材料的分子设计研究

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• 出版年：2004
• 作者：李元勋；唐先忠；何为；韩莉坤
• 单位1：电子科技大学微电子与固体电子学院
• 出生年：1979
• 学历：博士生
• 职称：讲师
• 语种：中文
• 作者关键词：光敏聚酰亚胺；光敏性二胺；羟醛缩合
• 起始页：44
• 总页数：3
• 经费资助：国家863计划资助项目（编号：2002AA325110）
• 刊名：材料导报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1987
• 主办单位：科学技术部西南信息中心
• 主编：彭丹
• 地址：重庆市渝中区胜利路132号
• 邮编：400013
• 电子信箱：mat-rev@163.com；matreved@163.com；mat-rev@swic.ac.cn
• 网址：http://www.mat-rev.com
• 卷：18
• 期：12
• 期刊索取号：P822.06 432
• 数据库收录：第二届百种中国杰出学术期刊；中国科学引文数据库来源期刊；中国科技论文统计源期刊

摘要

光敏聚酰亚胺（PSPI）具有高耐热性、良好的电绝缘性、优异的机械和感光性能等，被认为是极具应用前景的光电功能材料，已成为新型功能高分子材料的研究热点。从已得到商品化的PSPI材料出发，通过材料的分子结构设计，提出了合成新型PSPI的新思路，并根据有机合成的原理，简要论述了这几种新型PSPI的制备方法及提高PSPI性能的几条途径。