多弧离子镀技术发展现状及趋势

详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |

• 作者：刘晋铭欧忠文肖寒冰莫金川杨康辉
• 会议时间：2014-04-21
• 关键词：多孤离子镀技术 ; 工艺流程 ; 质量控制 ; 智能化设计
• 作者单位：中国人民解放军后勤工程学院,重庆 401331
• 母体文献：2014(重庆)国际表面工程论坛暨第十二届全国表面工程·电镀与精饰年会论文集
• 会议名称：2014(重庆)国际表面工程论坛暨第十二届全国表面工程·电镀与精饰年会
• 会议地点：重庆
• 主办单位：中国表面工程协会
• 语种：chi
• 分类号：TQ1;TG1

摘要

本文从多孤离子镀技术的提出及其引入国内为背景,回顾了多孤离子镀技术的发展历程,从优化工艺到多元多层镀膜再到复合多种镀膜技术.现今,对于多弧离子镀技术研究集中于纳米复合膜的制备,镀膜工艺的进一步优化,镀膜材料的多样化,镀膜应用领域的广泛化.通过对镀膜技术的分析和研究现状了解,认为多孤离子镀技术应用领域广,包括装饰日用、刀具工具、医疗器件、机车零件、航空航天、军械装备等方面,而对其研究将会在纳米复合膜制备、复合镀膜技术、镀膜设备智能化上有进一步发展.