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1.Analysis of dissociative excitation reactions of CH₃CN with the ECR plasmas of Ar and He

作者：Haruhiko Ito ; ^{bu7dd8@nagaokaut.ac.jp} ; Saori Onitsuka ; Katsuaki Koshimura

关键词：ECR plasma ; Optical emission ; CN radicals ; Hydrogenated amorphous carbon nitride

刊名：Diamond and Related Materials

出版年：2012

2.Stress analyses of GaN film manufactured by ECR plasma-enhanced chemical vapor deposition

作者：Fu Silie^a ; ^{fusl@scnu.edu.cn} ; Chen Junfang^a ; Gao Peng^a ; Wang Chun-ann^b

关键词：GaN film ; ECR&ndash ; PECVD ; Residual stress ; X-ray diffraction ; Photoluminescence

刊名：Vacuum

出版年：2012

3.Synthesis of free standing carbon nanosheet using electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition

作者：Rajesh Thomas ; G. Mohan Rao ; ^{gmrao@isu.iisc.ernet.in}

关键词：Carbon nanosheet ; Microwave-ECR plasma deposition ; Electron microscopy ; Infrared spectroscopy ; Photoelectron spectroscopy

刊名：Applied Surface Science

出版年：2012

4.Friction and wear behavior of plasma assisted chemical vapor deposited nanocomposites made of metal nanoparticles embedded in a hydrogenated amorphous carbon matrix

作者：A. Pardo^a ; ^{apardo@icmm.csic.es.com} ; C. Gó ; mez-Aleixandre^a ; ¹ ; ^{cgaleix@icmm.csic.es.com} ; J.P. Celis^b ; ² ; ^{Jean-Pierre.Celis@mtm.kuleuven.be} ; J.G. Buijnsters^b ; ³ ; ^{Ivan.Buijnsters@mtm.kuleuven.be}

关键词：Nanocomposite coatings ; Hydrogenated amorphous carbon ; Metallic nanoparticles ; Reciprocating sliding ; Tribology ; Plasma CVD

刊名：Surface and Coatings Technology

出版年：2012

5.Study of the biased-disc effect using Langmuir-probes inserted in the hot region of the electron cyclotron resonance ion source (ECRIS) plasma

作者：L. Kenéz ; A. Kitagawa ; J. Kará ; csony ; M. Muramatsu ; A. Valek ; S. Biri

关键词：ECRIS ; Plasma diagnostics ; Simple and emitting probe ; Biased-disc ; Plasma potential

刊名：Physics Letters A

出版年：2008

6.Low-temperature growth of highly c-oriented InN films on glass substrates with ECR-PEMOCVD

作者：An-Bo Zhi^a ; ^b ; Fu-Wen Qin^a ; ^b ; ^{qfw@dlut.edu.cn} ; Dong Zhang^a ; ^b ; Ji-ming Bian^a ; Bo Yu^a ; ^b ; Zhi-Feng Zhou^a ; ^b ; Xin Jiang^b ; ^c

关键词：Low temperature ; InN ; Glass substrates ; ECR-PEMOCVD

刊名：Vacuum

出版年：2012

7.Investigation of plasma parameters in 915 MHz ECR plasma with SiH₄/H₂ mixtures

作者：Doan Ha Thang ; Hiroshi Muta ; Yoshinobu Kawai

关键词：Microcrystalline silicon ; ECR plasma ; Electron temperature ; High deposition rate

刊名：Thin Solid Films

出版年：2008

8.Organic contaminants removal by oxygen ECR plasma

作者：Chongmu Lee ; Hyoun Woo Kim ; Sookjoo Kim

关键词：Dry cleaning ; Organic contaminant ; Oxygen ECR plasma cleaning ; Hydrogen ECR plasma cleaning ; ATR-FT-IR

刊名：Applied Surface Science

出版年：2007

9.Theoretical model for study of the voltage–current curve of a Langmuir-probe used in the hot region of the ECR plasma

作者：L. Kenéz ; J. Kará ; csony ; A. Derzsi ; S. Biri

关键词：ECRIS ; Plasma diagnostics ; Langmuir-probe ; Simple and emitting probe

刊名：Physics Letters A

出版年：2008

10.Surface passivation of InGaP/GaAs HBT using silicon-nitride film deposited by ECR–CVD plasma

作者：L.T. Manera ; L.B. Zoccal ; J.A. Diniz ; P.J. Tatsch ; I. Doi

关键词：Silicon-nitride film ; Passivation ; ECR– ; CVD plasma ; HBT

刊名：Applied Surface Science

出版年：2008

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