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3.Competitive and cost effective copper/low-k interconnect (BEOL) for 28 nm CMOS technologies
作者:R. Augur1 ; rod.augur@globalfoundries.com ; C. Child1 ; J.H. Ahn3 ; T.J. Tang2 ; L. Clevenger4 ; D. Kioussis1 ; H. Masuda7 ; R. Srivastava2 ; Y. Oda5 ; H. Oguma7 ; R. Quon4 ; B. Kim6 ; H. Sheng2 ; S. Hirooka7 ; R. Gupta1 ; A. Thomas4 ; S.M. Singh2 ; Q. Fang2 ; R. Schiwon8 ; B. Hamieh6 ; E. Wornyo4 ; S. Allen4 ; E. Kaltalioglu8 ; G. Ribes6 ; G. Zhang2 ; T. Fryxell1 ; A. Ogino7 ; E. Shimada7 ; H. Aizawa5 ; H. Minda5 ; S.O. Kim8 ; T. Oki7 ; K. Fujii7 ; M. Pallachalil8 ; T. Takewaki5 ; C.K. Hu4 ; B. Sundlof4 ; D. Permana1 ; T. Bolom1 ; B. Engel4 ; C. Labelle1 ; B. Sapp4 ; T. Nogami4 ; A. Simon4 ; H. Shobha4 ; S. Gates4 ; E.T. Ryan4 ; G. Bonilla4 ; T. Daubenspeck4 ; T. Shaw4 ; G. Osborne4 ; A. Grill4 ; D. Edelstein4 ; D. Restaino4 ; S. Molis4 ; T. Spooner4 ; P. Ferreira6 ; G. Biery4 ; R. Sampson6
出版年:2012
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