X射线光电子能谱（XPS）在摩擦学研究中的应用
- 出版年：2010
- 作者：丛培红；吴行阳；孙畅
- 单位1：复旦大学高分子科学系聚合物分子工程教育部重点实验室
- 语种：中文
- 作者关键词：X射线光电子能谱（XPS）；表面分析；新生面；摩擦化学
- 起始页：97
- 总页数：8
- 经费资助：本项目得到国家自然科学基金资助项目（50973021）的资助，在此表示感谢.
- 刊名：摩擦学学报
- 是否内版：否
- 刊频：双月刊
- 创刊时间：1981
- 主管单位：中国科学院
- 主办单位：中国科学院兰州物理研究所
- 主编：薛群基
- 地址：甘肃省兰州市天水中路18号
- 邮编：730000
- 电子信箱：tribology@lzb.ac.cn
- 卷：30
- 期：1
- 期刊索取号：P830.6 141-3
- 数据库收录：美国工程索引（Ei Compendex）核心期刊；美国《化学文摘》（CA）来源期刊；日本《科学技术文献速报》(JST)来源期刊；美国《剑桥科学文摘》(CSA)来源期刊；中国科学引文数据库(CSCD)来源期刊；中文核心期刊要目总览（第四版）核心期刊；中国核心期刊（遴选）数据库来源期刊
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摘要
X射线光电子能谱（XPS）是最常用的表面分析技术之一，在材料的摩擦化学、摩擦和磨损机理以及材料失效等研究方面发挥着重要作用.本文综述了XPS的基本原理、设备构成、分析特点及在润滑油添加剂的吸附与反应、聚合物填料、气相润滑和离子液体等摩擦化学研究中的应用，希望为摩擦学者在表面分析方法方面提供一些新的启示.