Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究
- 出版年：2001
- 作者：葛学贵；曹宏；黄少云；陈亦凡；靳化才；杨蜜纯
- 单位1：中国地质大学材料科学与化学工程学院
- 出生年：1946
- 职称：副研究员
- 语种：中文
- 作者关键词：Nb；Mo．Ti；Ta；W掺杂；硅化石墨；扫描电子显微镜(SEM）
- 起始页：77
- 总页数：6
- 经费资助：国家自然科学基金资助项目(49872021)；中国地质大学岩石矿物应用开发实验室基金资助项目
- 刊名：地质科技情报
- 是否内版：否
- 刊频：季刊
- 创刊时间：1982
- 主办单位：中国地质大学
- 主编：姚书振
- 电子信箱：kjqb@cug.edu.cn
- 卷：20
- 期：4
- 期刊索取号：CS00066356
- 核心期刊：中文核心期刊
摘要
以硅粉的1%，2%～10%(WB)将Nb，Mo，Ti，Ta，W等5种金属粉掺入硅粉中，用液硅渗透法(LSP)制备出系列掺杂硅化石墨样品。对这些样品抗折、抗拉强度测试结果表明：Nb(6%)-硅化石墨性能最优，抗拉强度提高了20%～27%；Mo(l%)、Mo（5%)掺杂效果次之；雨Ti(7%)、Ta(3%)、W(7%)等的掺杂反使材料强度降低。扫描电子显微镜(SEM)分析显示：Nb(6%)掺杂使抗拉强度增强的原因在于，新的铌与碳的闻隙化合物相的生成，减小了硅化石墨显微结构的尺寸，且使材料外层及内核结构均匀、致密、统一，因而能有效分散应力集中，缓冲裂纹扩张，增大承载截面，从而提高材料力学性能。相反Ti(7%)、Ta(3%)等掺杂后，尽管使材料外层结构致密，但内部结构疏松，晶粒、孔隙尺寸大小不一，形态各异，内、外结构极不统一，导致材料性能下降。