氩气对直流弧光放电PCVD金刚石薄膜晶体特征的影响

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• 出版年：2010
• 作者：张湘辉；汪灵；龙剑平；常嗣和
• 单位1：成都理工大学材料与化学化工学院
• 单位2：成都理工大学金刚石薄膜实验室
• 出生年：1971
• 学历：博士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：金刚石薄膜；晶体特征；直流弧光放电等离子体CVD
• 起始页：130
• 总页数：5
• 经费资助：国家自然科学基金(No．40572030，50974025)；四川省科技厅重点科技攻关项目（05GG021-001）；四川省教育厅自然科学重点科 研项目(2003A142)；成都理工大学研究基金项目(2005GY02)；四川省教育厅自然科学项目（07ZB009）
• 刊名：人工晶体学报
• 是否内版：否
• 刊频：双月刊
• 创刊时间：1972
• 主管单位：中国建筑材料联合会
• 主办单位：中材人工晶体研究院
• 主编：沈德忠
• 电子信箱：jtxbbjb@126.com
• 卷：39
• 期：1
• 期刊索取号：P311.06105
• 核心期刊：中文核心期刊

摘要

本文采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备，在YG6硬质合金基体上进行了不同氩气流量下金刚石薄膜的制备研究。采用SEM对金刚石薄膜的晶体特征进行了观察。结果表明，氩气对直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜的晶体特征有明显影响。在CH₄/H₂恒定时(0.8%)，硬质合金基体上制备的金刚石薄膜表面形貌随Ar流量增加而变化的规律，即从以(111)八面体晶面为主→(111)和(100)立方八面体混杂晶面→以(100)立方体晶面为主→菜花状的顺序转变；当Ar流量为420～700mL/min时，金刚石晶粒的平均尺寸由1.5μm逐步增大到7μm；Ar流量为700～910mL/min时，金刚石晶粒的平均尺寸由7μm急剧减小到纳米尺度，约50nm。