Ni-Al-V合金DO₂₂相间有序畴界面的微观相场模拟

详细信息   全文下载|推荐本文 |

• 出版年：2009
• 作者：张明义；王永欣；陈铮；董卫平；来庆波；张利鹏
• 单位1：西北工业大学凝固技术国家重点实验室
• 出生年：1982
• 学历：博士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：有序界面：成分偏聚：DO₂₂（Ni3V）相；微观相场；Ni-Al-V合金
• 起始页：962
• 总页数：5
• 经费资助：国家自然科学基金项目（50071046）；陕西省自然科学基金项目（2003E106）资助
• 刊名：稀有金属材料与工程
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 主管单位：中国科学技术协会
• 主办单位：中国有色金属学会；中国材料研究学会；西北有色金属研究院
• 主编：殷为宏
• 地址：北京市东黄城根北街16号
• 邮编：100717
• 电子信箱：rmme@c-nin.com
• 网址：http://www.rmme.ac.cn
• 卷：38
• 期：6
• 期刊索取号：P822.06 141-1
• 数据库收录：国家重点学术期刊；首届国家期刊奖；中国优秀科技期刊一等奖；中国有色金属工业优秀科技期刊一等奖；中国期刊方阵双奖期刊；陕西省优秀科技期刊特等奖；中国科技论文统计源期刊；中国科学引文数据库文献源；中文核心期刊；中国材料科学核心期刊；中国物理学核心期刊；中国学术期刊光盘版入网刊物；美国ISI数据库用刊(SCI Expanded®,Research Alert®, Materials Science Citation Index®)；美国工程索引(EI)文献源期刊；美国化学文摘(CA)文献源期刊；英国科学文摘(I
• 核心期刊：中文核心期刊；中国材料科学核心期刊；中国物理学核心期刊

摘要

利用微观相场动力学模型模拟Ni-Al-V合金沉淀过程中DO₂₂（Ni3V）相沿[100]和[001]方向形成的有序畴界面，对界面结构及其界面处合金元素的成分进行了研究。结果表明：DO₂₂相沿[100]和[001]方向形成3种稳定界面，且都不可以迁移；界面性质与界面结构有关，（002）//（100）界面处易析出L/2相，主要存在于沉淀早期；（002）//（100）/2[100]界面在沉淀后期易形成一种过渡界面；{110}孪晶界面则是三类界面中相对常见和稳定的界面：合金元素在不同的界面处有不同的偏聚和贫化倾向，在所有的界面处V原子贫化而Ni原子偏聚，Al原子在（002）//（100）·½2[100]界面处贫化，在其它界面处偏聚，且各元素在不同的界面处偏聚以及贫化程度也不一样。