方酸菁染料近红外吸收性能研究
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  • 出版年:2010
  • 作者:张东玖;楚增勇;邢欣;程海峰
  • 单位1:国防科学技术大学航天与材料工程学院
  • 出生年:1984
  • 学历:硕士
  • 语种:中文
  • 作者关键词:方酸菁染料;近红外吸收;基本构型;吸收波长;光学性能
  • 起始页:74
  • 总页数:6
  • 经费资助:武器装备预研基金
  • 刊名:材料导报
  • 是否内版:否
  • 刊频:半月刊
  • 创刊时间:1987
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司
  • 主编:张明
  • 地址:重庆市渝北区洪湖西路18号
  • 邮编:401121
  • 电子信箱:mat-rev@163.com;matreved@163.com;maeditor@gmail.com
  • 网址:http://www.mat-rev.com
  • 卷:24
  • 期:21
  • 期刊索取号:P822.06 432
  • 数据库收录:中文核心期刊;中国科学引文数据库来源期刊;中国科技论文统计源期刊
  • 核心期刊:中文核心期刊
摘要
方酸可与含供电子基团的物质.如芳胺、酚、含氮杂环化合物等发生缩合反应,生成一系列吸收波长在近红外区的新型方酸菁染料。该类染料具有独特的光学性能,良好的光、热稳定性和近红外吸收性能。影响方酸菁染料近红外吸收性能的主要因素包括方酸菁染料的基本结构(对称型与非对称型)、取代基的种类(端基包括胺、富电芳环、活泼双键以及活泼甲基)及染料在不同溶剂中的聚集行为。

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