电化学表面氧化处理的TC4在水基介质中的耐蚀耐磨行为

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• 出版年：2009
• 作者：杨阳展；陈新春；翟文杰
• 单位1：哈尔滨工业大学机电工程学院
• 出生年：1985
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：TC₄钛合金；摩擦电化学；氧化膜；水基介质
• 起始页：72
• 总页数：5
• 刊名：润滑与密封
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1976
• 主管单位：中国科学技术协会
• 主办单位：中国机械工程学会；广州机械科学研究院
• 主编：贺石中
• 地址：广州市黄浦区茅岗路828号
• 邮编：510700
• 电子信箱：rhymf@gmeri.com；rfbjb@163.net；webmaster@gmeri.com
• 网址：http://rhymf.com.cn
• 卷：34
• 期：12
• 期刊索取号：P830.6 141-4
• 数据库收录：中文核心期刊；中国科技论文统计刊源；《中国学术期刊文摘》源刊；CA收录期刊；万方数据——数字化期刊群；中国核心期刊（遴选）数据库；中国期刊全文数据库（CJFD）；中文科技期刊数据库
• 核心期刊：中文核心期刊；中国核心期刊（遴选）数据库

摘要

在销-盘式摩擦磨损试验机上，利用构建的三电极电化学测量分析系统，分别研究了在水、H₂SO₄、NaOH、NaCl溶液中进行静、动态电化学表面氧化处理后的TC₄钛合金的耐蚀及耐磨性。结果表明，动态和静态条件下施加阳极处理电压都能使TC₄表面产生氧化膜，氧化膜的耐蚀性与所加电压、载荷的大小有关；动态研磨过程中表面氧化膜生成与机械去除的过程是同时进行的；在水溶液中产生的氧化膜的耐腐蚀性最好。