热丝辅助MW ECR CVD技术高速沉积高质量氢化非晶硅薄膜
- 出版年：2005
- 作者：周怀恩；陈光华；朱秀红；阴生毅；胡跃辉
- 单位1：北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室
- 出生年：1980
- 语种：中文
- 作者关键词：氢化非晶硅；氢稀释率；电子回旋共振化学气相沉积；光敏性
- 起始页：171
- 总页数：4
- 经费资助：Foundation item:Project supported by State Development Program for Basic Research of China(G2000028201-l)
- 刊名：人工晶体学报
- 是否内版：否
- 刊频：双月刊
- 主办单位：中国硅酸盐学会晶体生长于材料专业委员会；人工晶体研究所
- 主编：余明清
- 卷：34
- 期：3
- 期刊索取号：P311.06105
- 数据库收录：《EI》收录源期刊
- 核心期刊：中文核心期刊
摘要
氢化非晶硅薄膜具有优异的光电特性，在制备薄膜太阳能电池中有重要的应用。本文采用热丝辅助MWECR CVD技术，通过调整各种工艺参数，制备了高沉积速率（DR>2.5nm/s）及高光敏性（σph/σD>105)的氢化非晶硅薄膜。实验表明，在衬底表面温度的分布中，热丝辐射和离子轰击引起的温度对薄膜的光敏性影响较大；在薄膜沉积的最后几分钟适当加大H2稀释率，有利于薄膜光电特性的改善。