脉冲激光沉积掺W类金刚石膜的性能

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• 出版年：2010
• 作者：王雪敏；吴卫东；李盛印；陈松林；唐永建；白黎；王海平
• 单位1：中国工程物理研究院
• 出生年：1975
• 学历：博士
• 语种：中文
• 作者关键词：脉冲激光气相沉积；类金刚石薄膜；硬度
• 起始页：1251
• 总页数：5
• 经费资助：中国工程物理研究院重大基金资助课题(2005Z0805)
• 刊名：稀有金属材料与工程
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 主管单位：中国科学技术协会
• 主办单位：中国有色金属学会；中国材料研究学会；西北有色金属研究院
• 主编：殷为宏
• 电子信箱：rmme@c-nin.com
• 网址：http://www.rmme.ac.cn
• 卷：39
• 期：7
• 期刊索取号：P822.06141-1
• 数据库收录：中国科技期刊篇名数据库收录刊物
• 核心期刊：中文核心期刊；中国材料科学核心期刊；中国物理学核心期刊

摘要

采用氟化氪(KrF)脉冲准分子激光烧蚀沉积(PLD)技术，在硅基体表面制备不同掺W时间的类金刚石薄膜(W-DLC)。利用AFM、XRD、Raman、纳米压痕等手段分析和研究薄膜的表面形貌、结构以及部分性能。结果表明：W掺入后形成了α-W₂C和WC相，并且没有明显改变薄膜中SP²和SP³键的含量，薄膜的表面粗糙度基本不受W掺入时间的影响，残余应力降低约1个数量级（二十几个GPa下降到几个GPa），硬度和弹性模量随W掺入时间的增加而逐渐降低。