铂薄膜化学气相沉积动力学规律探讨
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  • 出版年:2003
  • 作者:胡昌义;尹志民;王云;万吉高;邓德国;高逸
  • 单位1:中南大学材料科学与工程学院
  • 单位2:贵研铂业股份有限公司
  • 出生年:1963
  • 学历:博士生
  • 职称:副研究员
  • 语种:中文
  • 作者关键词:复合材料;铂薄膜;化学气相沉积;动力学
  • 起始页:21
  • 总页数:5
  • 经费资助:国家自然科学基金资助项目(50171031);云南省自然科学基金资助项目(200E0085M)
  • 刊名:贵金属
  • 是否内版:否
  • 刊频:季刊
  • 创刊时间:1980
  • 主办单位:中国有色金属学会;昆明贵金属研究所
  • 主编:孙加林
  • 地址:昆明贵金属研究所,云南昆明二环北路
  • 邮编:650221
  • 卷:24
  • 期:1
  • 期刊索取号:P754.06 699-1
摘要
以乙酰丙酮铂为沉积源物质,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)法在Mo基体上制备了Pt薄膜。研究了Pt薄膜的沉积速率与基体温度、乙酰丙酮铂的加热温度和运载气体(氩气)流速等沉积参数的关系。Pt的沉积速率与沉积温度之间的关系不符合Arrhenius方程:沉积速率与绝对温度的倒数呈现抛物线关系,当温度为550C时,Pt的沉积速率达到最大值;随着乙酰丙酮铂加热温度的升高,Pt的沉积速率直线增加;而氩气流速的增大则显著减少Pt的沉积速率。SEM波谱成分分析表明,Pt薄膜中含有少量的氧。

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