沉积温度和退火处理对BCN薄膜结构的影响
- 出版年：2010
- 作者：杨琼；王传彬；章嵩；张东明；沈强；张联盟
- 单位1：武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
- 出生年：1985
- 学历：硕士生
- 语种：中文
- 作者关键词：BC；N薄膜；沉积温度；退火；脉冲激光沉积
- 起始页：63
- 总页数：4
- 经费资助：国家自然科学基金资助项目（50772082）
- 刊名：表面技术
- 是否内版：否
- 刊频：双月刊
- 创刊时间：1972
- 主管单位：中国兵器装备集团公司
- 主办单位：中国兵器工业第五九研究所；中国兵工学会防腐包装分会；中国兵器工业防腐包装情报网
- 主编：吴护林
- 地址：重庆市九龙坡区石桥铺渝州路33号
- 邮编：400039
- 电子信箱：wjqkbm@163.com
- 网址：http://www.bmjs2007.com；http://bmjs.chinajournal.net.cn
- 卷：39
- 期：1
- 期刊索取号：P872.06 141
- 数据库收录：中国中文核心期刊；中国科技核心期刊；中国科学引文数据库统计源刊；中国期刊全文数据库全文收录期刊；中国核心期刊（遴选）数据库收录期刊；中国学术期刊综合评价数据库统计源刊；《中国学术期刊（光盘版）》入编期刊；中国期刊网全文收录期刊；中文科技期刊数据库收录期刊；《中国学术期刊文摘》收录源期刊；CEPS中文电子期刊服务全文收录期刊
- 核心期刊：中国中文核心期刊；中国科技核心期刊；中国核心期刊（遴选）数据库收录期刊
摘要
采用脉冲激光沉积技术，在Si（100）基片上制备了BCN薄膜，研究了沉积温度和退火处理对BCN薄膜组分和结构的影响。利用傅里叶变换红外光谱（FTIR）和X射线光电子能谱（XPS）对制备的BCN薄膜进行了表征。结果表明：沉积温度升高时，BCN薄膜的组分无明显改变。所制备的BCN薄膜包含B—N，C—B和C—N化学键，是由杂化的B—C—N键构成的化合物。真空退火温度为700℃时，BCN薄膜结构稳定；大气退火温度达到600℃时，BCN薄膜表面发生氧化分解，同时有C≡N键形成，表明C≡N键具有较好的高温热稳定性。