PCVD制备新型Ti-Si-CN纳米复合超硬薄膜及其微观结构表征

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• 出版年：2005
• 作者：郭岩；畅庚榕；马胜利；徐可为
• 单位1：西安交通大学金属材料强度国家重点实验室
• 出生年：1977
• 学历：博士生
• 语种：中文
• 作者关键词：Ti-Si-C-N；PCVD；纳米复合薄膜；微观结构
• 起始页：985
• 总页数：4
• 经费资助：国家自然科学基金项目50271053和50371067，国家自然科学基金委重大国际合作项目50420130033，国家重点基础研究发展规划项目2004CB619302以及教育部新世纪优秀人才支持计划项目NCET-04-0934资助
• 刊名：金属学报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1956
• 主办单位：中国金属学会
• 主编：柯俊
• 地址：沈阳文化路72号
• 邮编：110016
• 电子信箱：jsxb@imr.ac.cn
• 网址：www.ams.org.cn
• 卷：41
• 期：9
• 期刊索取号：P750.66 350
• 数据库收录：国家自然科学基金专项资助期刊

摘要

用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积（PCVD）方法，在高速钢试样表面沉积出一种新型Ti—Si-C-N薄膜材料.研究了不同SiCl₄流量对薄膜成分、微观组织形貌以及薄膜晶体结构的影响.X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）、透射电子显微镜（TEM）和扫描电子显微镜（SEM）分析结果表明：Ti-Si-C-N薄膜是由Ti（C，N）/a-C/a-Si₃N₄组成的纳米复合结构，薄膜的晶粒尺寸在2—25nm范围内；当Ti-Si-C-N薄膜中N含量很少时，Ti（C，N）结构转变为TiC，薄膜的表面形貌由颗粒状转变为粗条状.