脉冲直流PCVD技术在盲孔底部沉积Ti-Si-N薄膜
- 出版年：2005
- 作者：马青松；马胜利；徐可为
- 单位1：西安交通大学金属材料强度国家重点实验室
- 出生年：1978
- 学历：硕士生
- 语种：中文
- 作者关键词：脉冲直流PCVD；Ti-Si-N；复杂型腔
- 起始页：738
- 总页数：4
- 经费资助：国家“863”高技术项目（2001AA338010）；国家自然科学基金项目（50271053）教育部博士点基金项目（20020698016）共同资助
- 刊名：稀有金属材料与工程
- 是否内版：否
- 刊频：月刊
- 主管单位：中国科学技术协会
- 主办单位：中国有色金属学会；中国材料研究学会；西北有色金属研究院
- 主编：殷为宏
- 地址：北京市东黄城根北街16号
- 邮编：100717
- 电子信箱：rmme@c-nin.com
- 网址：http://www.c-nin.com
- 卷：34
- 期：5
- 期刊索取号：P822.06 141-1
- 数据库收录：国家重点学术期刊；首届国家期刊奖；中国优秀科技期刊一等奖；中国有色金属工业；优秀科技期刊一等奖；中国期刊方阵双奖期刊；陕西省优秀科技期刊特等奖；中国科技论文统计源期刊；中国科学引文数据库文献源；中文核心期刊；中国材料科学核心期刊；中国物理学核心期刊；中国学术期刊光盘版入网刊物；美国ISI数据库用刊(Sci Search®，Research Alert®,Materials ScienceCitation Index®）；美国工程索引(EI)文献源期刊；美国化学文摘(CA)文献源期刊；英国科学文摘(INSP
- 核心期刊：中文核心期刊；中国材料科学核心期刊；中国物理学核心期刊
摘要
用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）技术在盲孔的底部获得Ti-Si-N薄膜。用扫描电子显微镜（SEM），X射线能量色散谱仪（EDX），X射线衍射仪（XRD），球痕法（ball-crater），显微硬度计（Hv）和涂层压入仪（P。）分析不同盲孔深度处薄膜的微观结构和力学性能。结果表明，随着盲孔深度的增加，Ti-Si-N薄膜中Ti与Si元素相对比例降低，薄膜厚度下降，薄膜与基体的结合强度有很大提高，膜基复合显微硬度下降，而薄膜的本征硬度在盲孔深度为20mm处出现最大值。