PVDF-HFP基聚合物电解质膜的制备及性能表征
- 出版年：2009
- 作者：刘伯文；王新东；李建玲；郭敏
- 单位1：北京科技大学物理化学系
- 出生年：1971
- 学历：博士生
- 语种：中文
- 作者关键词：相转化法；聚合物电解质；PVDF-HFP；离子电导率
- 起始页：232
- 总页数：4
- 经费资助：国家自然科学基金资助项目（50528404）.
- 刊名：材料科学与工艺
- 是否内版：否
- 刊频：双月刊
- 创刊时间：1982
- 主管单位：国防科学技术工业委员会
- 主办单位：中国材料研究学会；哈尔滨工业大学
- 主编：冯吉才
- 电子信箱：cailiaokexue@hope.HIT.edu.cn
- 网址：http：//journal.hit.edu.cn/
- 卷：17
- 期：2
- 期刊索取号：P/822.06/423
摘要
采用相转化法制备了PVDF-HFP基多孔聚合物电解质，研究了PVDF-HFP的溶解温度、溶剂用量以及非溶剂用量等因素对聚合物电解质性能的影响，分别采用交流阻抗法和稳态电流法测定了聚合物电解质膜的离子电导率和离子迁移数，并通过扫描电镜观察了多孔聚合物膜的表面形貌.研究表明，制备PVDF-HFP多孔聚合物电解质膜的合适条件为：溶胶温度50～60℃、溶胶时间2h、溶剂与PVDF的质量比为9～11、非溶剂与PVDF的质量比为0.5～0.25.该条件下制得的多孔聚合物电解质膜的孔隙率达到70%左右、离子迁移数在0.3左右、室温离子电导率达到1.6×10-3S.cm-1.