In Situ PL and SPV Monitored Charge Carrier Injection During Metal Assisted Etching of Intrinsic a-Si Layers on c-Si
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- 作者：Stefanie M. Greil ; J枚rg Rappich ; Lars Korte ; St茅phane Bastide
- 刊名：ACS Applied Materials & Interfaces
- 出版年：2015
- 出版时间：June 3, 2015
- 年：2015
- 卷：7
- 期：21
- 页码：11654-11659
- 全文大小：335K
- ISSN：1944-8252
文摘