有机蒙脱石的制备及其层间插层剂排布模式研究

详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |

• 作者：徐芳沈上越谢静
• 会议时间：2004-08-29
• 关键词：蒙脱石 ; 有机蒙脱石
• 作者单位：中国地质大学材化学院(湖北武汉
• 母体文献：2004年第4卷增刊《过程工程学报》
• 会议名称：中国颗粒学会2004年年会暨海峡两岸颗粒技术研讨会
• 会议地点：山东烟台
• 主办单位：中国颗粒学会
• 语种：chi

摘要

本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验,并对其进行表征.FTIR证实有机插层剂已进入蒙脱石.XRD结果表明有机蒙脱石的层间距最大达到了3.98nm,同时根据XRD结果作者推测出蒙脱石插层结构排列演变模式为:单层平卧→倾斜单层→假三层→倾斜双层.其中倾斜单层结构中能达到的最大层间距3.22nm.