等离子体喷涂工艺参数对B4C涂层性能的影响
- 作者：张有茶夏洋贾成厂贾永昌张庆钊王文东刘金虎
- 会议时间：2014-10-01
- 关键词：半导体器件 ; 碳化硼涂层 ; 等离子体喷涂工艺 ; 颗粒速度 ; 颗粒温度 ; 沉积效率 ; 显微硬度
- 作者单位：张有茶(北京科技大学,北京,100083;北京美桥电子设备有限公司,北京,100022;)夏洋,张庆钊,王文东,刘金虎(中科院微电子研究所,北京,100029)贾成厂(北京科技大学,北京,100083)贾永昌(北京廊桥材料技术有限公司,北京,100089)
- 母体文献：第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)论文集
- 会议名称：第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)
- 会议地点：成都
- 主办单位：中国表面工程协会热喷涂专业委员会
- 语种：chi
- 分类号：TG1;TN2
摘要
采用大气等离子喷涂工艺制备了B4C涂层,获得了最大沉积效率9.0μm/pass和最高显微硬度819.7Hv.结果显示:喷涂焰流中颗粒速度随电压的增大而增大;颗粒速度和温度都随送粉速率的增大而降低;颗粒速度随喷涂距离的增大而降低,颗粒温度随喷涂距离的增大先增大后减小.这直接导致涂层沉积效率随送粉速率的增加几乎呈线性增大;导致B4C涂层的显微硬度随电压增大而线性减小,随送粉速率的增大先增大后减小,随喷涂距离的增大先急剧增大后趋于平稳.