CVD合成钻石的研究进展
- 作者：Chen Mei-hua陈美华Wu Gai吴改Liu Jian-hong刘剑红Gong Ni-na宫旎娜Wang Jian-xing王健行
- 会议时间：2012-10-29
- 关键词：人造钻石 ; 化学气相沉积 ; 合成工艺 ; 微观形貌 ; 性能测试
- 作者单位：Chen Mei-hua,Wu Gai,Liu Jian-hong,Gong Ni-na,Wang Jian-xing(Gemology Institute of China University of Geosciences,Wuhan 430074,Hubei)陈美华,吴改,刘剑红,宫旎娜,王健行(中国地质大学珠宝学院,湖北武汉430074)
- 母体文献：2012国际珠宝学术年会论文集
- 会议名称：2012国际珠宝学术年会
- 会议地点：武汉
- 主办单位：中国地质大学
- 语种：chi
摘要
对11颗高温高压合成钻石种晶进行了不同CH4/H2比例、温度和压强下的CVD生长实验。生长后的样品经过了红外光谱定量分析和拉曼光谱分析,并对样品表面的微形貌进行了观察。结果表明,合成的CVD钻石有一定的内应力,晶体质量与高温高压种晶质量相似。过高的CH4/H2比例对CVD钻石的生长无明显促进作用,会增加C-H缺陷,抑制钻石的快速生长。同时,温度对CVD钻石的生长速度和生长模式起着重要的作用,适当提高合成温度有助于钻石生长台阶的形成以及生长速率的提高。