辉光放电发射光谱中一种新的深度分析校正模式及其应用
- 作者：YU Wei-hua余卫华CHEN Shi-hua陈士华LI Jiang-wen李江文ZHANG Sui-zhong张穗忠TAN Qian谭谦
- 会议时间：2012-10-31
- 关键词：辉光放电 ; 发射光谱 ; 表面分析 ; 校正模式 ; 溅射率
- 作者单位：YU Wei-hua,CHEN Shi-hua,LI Jiang-wen,ZHANG Sui-zhong,TAN Qian(Wuhan Iron and Steel(Group)Co. , Wuhan 430080, China)余卫华,陈士华,李江文,张穗忠,谭谦(武汉钢铁(集团)公司,湖北武汉430080)
- 母体文献：2012国际冶金及材料分析测试学术报告会(CCATM2012)论文集
- 会议名称：2012国际冶金及材料分析测试学术报告会(CCATM2012)
- 会议地点：北京
- 主办单位：中国金属学会
- 语种：chi
摘要
介绍了辉光放电发射光谱中一种新的表面分析校正方法-层模式,该方法可以利用已知含量和厚度的涂层样品来建立一个表面分析工作曲线,用于分析类似的涂镀层样品。使用数学推导对该方法的原理进行了说明,利用该方法建立了多个工作曲线,分析了相应的涂镀层样品(玻璃上的金属涂层、铁基上的铜镀层、镀锌板等),得到了较为满意的结果。和使用传统溅射率模式建立的工作曲线进行了对比,层模式在镀层过渡层、交界处的信息提供上有所欠缺。