磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究

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• 作者：郑华刘实于洪波朱跃进王隆保施力群刘超卓
• 会议时间：2004-06-15
• 关键词：磁控溅射 ; Ti膜 ; 氦 ; 热解吸 ; 合金膜
• 作者单位：郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保(中国科学院,金属研究所,辽宁,沈阳,110016)施力群,刘超卓(复旦大学,现代物理研究所,上海,200433)
• 母体文献：原子能科学技术
• 会议名称：中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会
• 会议地点：上海
• 主办单位：中国核学会
• 语种：chi

摘要

本文采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦-金属比)高达0.19的氦.引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2~5nm的高压He泡内.热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致.与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂.