Ni-P/纳米SiO2化学复合镀工艺条件对镀层硬度的影响

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• 作者：尹国光
• 会议时间：2010-10-01
• 关键词：纳米二氧化硅 ; 化学复合镀 ; 镀层硬度 ; 粒径分布 ; 镀态硬度
• 作者单位：泉州师范学院化学与生命科学学院,福建泉州,362000
• 母体文献：第十届全国化学镀会议论文集
• 会议名称：第十届全国化学镀会议
• 会议地点：长沙
• 主办单位：中国腐蚀与防护学会
• 语种：chi

摘要

为了提高Ni-P/纳米SiO2化学复合镀层硬度,试验了镀液pH值、温度和纳米SiO2含量对镀层硬度的影响。用粒径分布仪测试了纳米SiO2分散液在加入镀液前后粒径的变化,用氯化钯试验法和称重法测试了镀液pH值、稳定性和沉积速度三者的关系,用EDS测试了镀层P含量。用试验筛选的镀液镀覆了铸铁材料的模具。结果表明,SiO2分散液加入镀液后,粒径变化不大,保持在100nm左右。化学复合镀层的P含量为6.28%。在镀液pH值为5.0,纳米SiO2含量为2.5g/L,温度为84℃条件下,复合镀层镀态硬度为HV620,300℃热处理后硬度为HV925。铸铁模具镀后镀层光滑,银白色,脱模效果优于电镀硬铬层。