多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究
- 作者：朱元义邓佩珊朱常锋朱文
- 会议时间：2012-05-01
- 关键词：表面处理 ; 氮化钛膜 ; 镀膜技术 ; 工艺参数
- 作者单位：朱元义(佛山市双石钢业有限公司,广东 佛山 528251 肇庆市双石金属实业有限公司,广东 肇庆 526238)邓佩珊(佛山市双石钢业有限公司,广东 佛山 528251)朱常锋(广州市番禺双石钛金厂,广东 广州 511430)朱文(肇庆市双石金属实业有限公司,广东 肇庆 526238)
- 母体文献：第九届全国转化膜及表面精饰学术年会论文集
- 会议名称：第九届全国转化膜及表面精饰学术年会
- 会议地点：合肥
- 主办单位：中国机械工程学会
- 语种：chi
摘要
采用多弧离子镀法在金属表面制备氮化钛装饰层具有成膜速度快,膜层和基底结合力好的优点,因此被国内许多装饰镀膜相关的厂家所采用。但是这种镀膜方式也存在着色度难控制和“大颗粒”污染问题。而磁控溅射镀膜,膜厚容易控制且膜层致密。本文结合两种镀膜方法的优点,制备了TiN/SiO2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射SiO2的时间实现对膜层色度的控制。当氧化硅溅射时间为30min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。