AM60镁合金化学抛光的工艺及机理研究
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  • 作者:宋晓敏余刚何晓梅胡波年陈云张俊易海波
  • 会议时间:2008-07-01
  • 关键词:镁合金材料 ; 表面精整 ; 化学抛光 ; 抛光工艺
  • 作者单位:宋晓敏,余刚,陈云,张俊,易海波(湖南大学化学化工学院,长沙,410082)何晓梅,胡波年(湖南工学院化学化工系,衡阳,421008)
  • 母体文献:2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集
  • 会议名称:2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
  • 会议地点:沈阳
  • 主办单位:中国腐蚀与防护学会
  • 语种:chi
摘要
本文用磷酸、丙二醇和水组成的抛光液中的失重率和磷化膜的盐水腐蚀实验以及电化学方法,研究了抛光工艺对AM60镁合金抛光效果、磷化膜耐蚀性的影响及AM60镁合金在磷酸系抛光液中的抛光机理。结果表明,用磷酸体积分数为60[%]~70[%]的抛光液,在温度40~50℃下抛光3~5 min,得到了较好的抛光效果,同时提高了磷化膜的耐蚀性。

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