缓蚀剂对化学机械抛光液中铜的保护作用

详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |

• 作者：吴崇田张大全高立新廉进卫
• 会议时间：2011-10-01
• 关键词：化学机械抛光液 ; 保护作用 ; 缓蚀剂 ; 色氨酸 ; 铜基体
• 作者单位：吴崇田,张大全,高立新(上海电力学院环境工程系 上海 200090)廉进卫(上海必美宜新华抛磨材料有限公司 上海 201703)
• 母体文献：2011全国(武汉)防锈润滑包装学术交流大会暨防锈专业委员会第五届五次历史(扩大)会——绿色防锈润滑包装新技术论坛论文集
• 会议名称：2011全国(武汉)防锈润滑包装学术交流大会暨防锈专业委员会第五届五次历史(扩大)会——绿色防锈润滑包装新技术论坛
• 会议地点：武汉
• 主办单位：中国表面工程协会
• 语种：chi

摘要

本文考察了色氨酸(Try)对化学机械抛光液中的保护作用,通过复配技术研究了Try和苯并三氮唑(BTA)对化学机械抛光液中铜的协同保护作用。选择Try和BTA复配,作为化学机械抛光液中铜缓蚀剂。采用电化学阻抗法和极化曲线法对其效果进行了研究,结果表明15mg/L BTA + 35mg/L Try复配使用,可导致腐蚀电位正移,其保护效率可达87.0%。结论可得,采用Try和BTA复配使用可以增强化学机械抛光液对铜基体的保护作用,有利于提高抛光液的选择性,同时保持较高的抛光效率,降低BTA缓蚀剂对环境的污染。