钽片的化学抛光工艺

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• 作者：郑欣熊全明袁宝明王新
• 会议时间：2002-10-01
• 关键词：化学抛光法 ; 表面粗糙度 ; 纯钽板 ; 表面质量 ; 氧化膜
• 作者单位：郑欣,熊全明,袁宝明(西北有色金属研究院,陕西,西安,710016)王新(青岛建筑工程学院,山东,青岛,266520)
• 母体文献：难熔金属科学与工程——第10届全国难熔金属学术交流会文集
• 会议名称：第10届全国难熔金属学术交流会
• 会议地点：宜昌
• 主办单位：中国有色金属学会
• 语种：chi

摘要

为了改善钽片的表面质量,采用化学抛光法,研究了影响钽片化学抛光质量的因素,并给出了钽片溶解速度与化学抛光液中酸浓度的关系.结果表明:钽片产生自钝化的条件为,还原平衡电位远高于维钝电位,微电池的阴极极化电流密度大于致钝电流密度;抛光温度为40℃~45℃时钽片表面形成致密的氧化膜,经轧制后钽片表面达到了镜面光泽。