原子力显微镜力曲线研究炭黑表面吸脱附力

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• 作者：朱林英陈建吴兆宏胥会
• 会议时间：2014-10-14
• 关键词：橡胶工业 ; 炭黑材料 ; 表面吸脱附力 ; 原子力显微镜 ; 力曲线
• 作者单位：四川理工学院材化学院,四川 自贡 643000
• 母体文献：中国金属学会炭素材料分会第二十八届学术交流会论文集
• 会议名称：中国金属学会炭素材料分会第二十八届学术交流会
• 会议地点：河北涞水
• 主办单位：中国金属学会炭素材料分会
• 语种：chi
• 分类号：TH7;O63

摘要

通过原子力显微镜对橡胶用普通炭黑N220、N330、N550、N660和高结构炭黑N115、N234、N347等7种炭黑进行扫描并绘出相应的力曲线.由每种炭黑系列的力曲线数据得到这7种炭黑的平均吸附力和脱附力值.除了炭黑N115的吸附力较大,平均值为4.718 nN外,其他6种炭黑的吸附力差异不大且其值都小于1.炭黑表面活性基团的活性不同导致不同炭黑之间的脱附力值差异较大,脱附力平均值最大的炭黑N660与脱附力平均值最小的炭黑N220之间差异有8倍之多.总体而言,高结构炭黑的脱附力平均值较大且活性基团分布较为集中.普通炭黑的脱附力平均值除N660外都较小,表面活性基团分布也较为分散.