采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究
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  • 作者：胡希忠廖军
  • 会议时间：2007-09-01
  • 关键词：磁控管溅射 ; 电子回旋共振 ; 等离子体沉积 ; ZnO薄膜 ; 沉积速率
  • 作者单位：安源实业股份有限公司工程玻璃厂 江西萍乡 337000
  • 母体文献：2007年赣闽皖苏湘五省煤炭学会联合学术交流会论文汇编
  • 会议名称：2007年赣闽皖苏湘五省煤炭学会联合学术交流会
  • 会议地点：厦门
  • 主办单位：中国煤炭学会
  • 语种：chi
摘要
将磁控管方式溅射用于微波ECR等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度C轴取向的ZnO薄膜,其膜的沉积速率比普通ECR溅射中所得到的速率大得多,并且在(h)12cm的膜区域内显示出良好的均匀性。

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