非平整超薄釉面抛光磨具的优化设计

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• 作者：龚钱彬李国太邹胜利岳彩超廖应峰
• 会议时间：2014-10-01
• 关键词：抛光磨具 ; 弹性磨块 ; 工艺优化 ; 非平整超薄釉面 ; 磨抛加工 ; 产品性能
• 作者单位：广东新劲刚新材料科技股份有限公司,佛山528216
• 母体文献：第十八届中国超硬材料技术发展论坛论文集
• 会议名称：第十八届中国超硬材料技术发展论坛
• 会议地点：太原
• 主办单位：中国机床工具工业协会超硬材料分会
• 语种：chi
• 分类号：TG7;TQ3

摘要

通过对不同分子量树脂材料的选型、金刚石料的粒群控制及配比浓度调整,辅以对工艺参数以及辅件硬度搭配等的优化设计,使弹性磨块在对大规格非平整超薄釉面砖进行平面磨抛加工时,既能保证不错的切削力(锋利性好)和磨抛效率(上光快),又能有较好的耐磨时间(使用寿命长),产品使用性能得以大幅提升.