化学刻蚀和微电铸联合工艺制备微流控芯片金属模具的研究
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摘要
对化学刻蚀和微电铸联合工艺制备微流控芯片金属模具进行了研究。比较了化学刻蚀前后阴极掩膜基片的表面形貌,结果表明化学刻蚀能进一步去除残胶,并且为获取高深宽比电铸结构提供条件。通过化学刻蚀和微电铸联合工艺试验,获得表面组织均匀的微流控芯片金属模具。

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