Bil3-nylon 11纳米复合材料的XPS及ATR分析

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• 作者：赵志娟刘芬赵良仲
• 会议时间：2009-08-17
• 关键词：纳米复合材料 ; X射线光电子能谱法 ; 聚合物膜 ; 氢键 ; 全反射红外光谱法
• 作者单位：中国科学院化学研究所,北京 100190
• 母体文献：2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议论文集
• 会议名称：2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议
• 会议地点：贵州
• 主办单位：中国金属学会
• 语种：chi

摘要

本文用X射线光电子能谱法(XPS)分析了BiI3-nylon 11纳米复合材料和尼龙11聚合物膜,发现BiI3与nylon 11的复合破坏了原先聚酰胺相邻分子链间酰胺基团的氢键作用,取而代之的是发生在Bi(III)和羧基氧之间的相互作用,表明BiI3-nylon11纳米复合材料中BiI3与nylon 11(尼龙11)酸胺基团之间存在相互作用。由于Nls和Ols结合能位移较小,而样品制备和测试过程中又难以避免c和O的表面污染,这些都能影响XPS分析结果的准确性,为了分析BiI3对聚酰胺分子间氢键作用的影响,又采用衰减全反射红外光谱法(ATR)分析比较了纯nylon11和BiI3-nylon11纳米复合材料,且表明了纳米复合材料中BiI3与nylon11分子间的相互作用。