Al/Ti0.5Al0.5N/Ti0.25Al0.75N/AlN光谱涂层的微观结构研究
- 作者：郝雷杜淼张子楠于庆河刘晓鹏
- 会议时间：2014-12-01
- 关键词：光谱选择性吸收涂层 ; 氮化物 ; 微观结构 ; 光学性能
- 作者单位：北京有色金属研究总院能源材料与技术研究所,北京,100088
- 会议名称：北京金属学会第八届冶金年会
- 会议地点：北京
- 主办单位：北京金属学会
- 语种：chi
- 分类号：TQ1;TG7
摘要
使用过渡金属氮化物(TiAlN)作为吸收层开发的光谱选择性吸收涂层,吸收率为0.926~0.945,室温发射率为0.04~0.06.采用XPS、AES、AFM和XTEM观察了光谱涂层的微观结构.与Ti0.25Al0.75N相比,Ti0.5Al0.5N中有更多的Ti-N键和更少的Ti-O-N键,由此导致了Ti0.5Al0.5N表现出类金属的性质.Ti-N键表现出类金属的特性,Ti1-xAlxN涂层的光学性质由涂层中Ti-N的含量决定:Ti0.5Al0.5N中Ti-N键含量高表现出金属特性;Ti0.25Al0.75N中Ti-N键含量低表现出电介质特性.